欧洲研究机构IMEC计划扩充其12寸旗舰晶圆厂以提升产能，并计划在2010年出开始提供试产用的超紫外光微影(extremeultravioletlithography)工具。该研究机构的总裁暨执行长GilbertDeclerck亦透露，IMEC位于比利时Leuven的办公据点与制造产能扩充，是为了迎接18寸晶圆时代所做的准备。 Declerck补充表示，IMEC的8寸晶圆无尘室产能已经满载，12寸晶圆无尘室则接近满载。该机构持续扩充其尖端技术能力，除了是要追随摩尔定律(Moore’sLaw)朝更细微制程节点迈进，所正在进行的系统级封装(system-in-packaging)、3D芯片、微机电系统(MEMS)、生物科技与光电科技研究，也都需要更大的活动空间。
他表示，如此的策略是由IMEC的董事会与该机构位于各地区的据点所共同决定的，IMEC近期会公布详细的扩充与投资计划。目前IMEC在荷兰Eindhoven的HolstCenter以及台湾新竹，各有一个附属研发据点。
来源: 电子工程专辑
